Radiação ultravioleta extrema
A radiação ultravioleta extrema ( EUV , radiação EUV , ultravioleta extremo inglês , XUV ) descreve a faixa espectral da radiação eletromagnética entre 10 nm e 121 nm. Isso corresponde a energias de fótons entre cerca de 10,25 eV e 124 eV. EUV, portanto, denota uma faixa de comprimento de onda no limite dos raios X , que se sobrepõe à radiação ultravioleta de vácuo (VUV, de acordo com ISO21348 10–200 nm, de acordo com DIN 5031 100–200 nm).
Limites comuns
Além dos limites de comprimento de onda mencionados acima, existem outros:
- o comprimento de onda limite inferior é 30 nm
- corresponde ao comprimento de onda limite inferior
- a primeira energia de ionização de oxigênio (aprox. 100 nm)
- o limite de transmissão de fluoreto de magnésio (aprox. 120 nm)
- o comprimento de onda da transição Lyman α em 121,6 nm
A abreviatura XUV também está associada ao nome em inglês ultravioleta extremo . De acordo com a ISO 21348, no entanto, XUV (0,1–10 nm) denota a faixa espectral da radiação ultravioleta que se sobrepõe à radiação de raios-X suave.
inscrição
A litografia EUV substituiu a tecnologia de semicondutores atualmente existente na fotolitografia tradicional e permite a produção econômica de atuais circuitos microeletrônicos e o desenvolvimento de circuitos com dispositivos de maior densidade. Internacionalmente, os departamentos de P&D e institutos envolvidos concordaram em um comprimento de onda central de 13,5 nm . Normalmente, apenas uma largura de banda de aproximadamente 2% pode ser usada para litografia. A litografia EUV tem sido usada comercialmente na indústria de semicondutores desde 2018 . Um grupo do NIST nos EUA também está envolvido nesta pesquisa . -10-18
Devido ao comprimento de onda curto e à forte interação com a matéria, a radiação EUV oferece o potencial para análise e geração de estrutura com resolução nanométrica e, normalmente, várias centenas de nanômetros de profundidade de penetração .
Evidência individual
- ↑ a b c d ISO 21348 de 1º de maio de 2007. Ambiente espacial (natural e artificial) - Processo para determinação das irradiâncias solares.
- ↑ DIN 5031 parte 7 de janeiro de 1984. Física da radiação no campo óptico e tecnologia de iluminação. Designação das faixas de comprimento de onda.
- ↑ Nico Ernst: Samsung fabrica chips de 7 nanômetros com fotocompositores EUV. In: heise online. 18 de outubro de 2018, acessado em 11 de janeiro de 2021 .
- ↑ Charles Tarrio, Thomas Lucatorto: Como a luz ultravioleta extrema nos ajuda a oferecer smartphones e satélites mais potentes . In: NIST. 13 de abril de 2020, acessado em 11 de janeiro de 2021 .